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电子半导体

电子半导体生产用超纯水对TOC、DO、SIO2、Particulate的控制极其严格,达到PPb级,产水水质要求在18。2MΩ*cm(25℃)以上。

工艺流程:2B3T的工艺流程制作超纯水
设备优点

2B3T工艺经常用在大用水量的半导体超纯水工艺流程中。现将他们的优缺点分别列于右边:

设备优点
  • 水质稳定高


  • 系统产水率高







技术要求

采用膜表面高分子嫁接技术,产水TOC在20PPB以下,更适用电子级超纯水系统。 高TOC脱除率、高抗污染能力、低TOC溶出率,TOC达标冲洗时间短、先进配套电源技术,能耗更低。

水质标准

1、ASTM-D5127-2007《美国电子学和半导体工业用超纯水标准》

2、欧盟电子级超纯水标准

3、中国电子工业国家标准

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